Philips, Mari-AnneLilleväli, KerstinTõnissoo, TambetKaare, MariaTartu Ülikool. Loodus- ja tehnoloogiateaduskondTartu Ülikool. Molekulaar- ja rakubioloogia instituut2016-08-092016-08-092016http://hdl.handle.net/10062/52915Mitmed uuringud on näidanud, et IgLON perekonna neuraalsed adhesioonimolekulid (OPCML, NTM, LSAMP, NEGR1) on olulisteks kanditaatideks skisofreenia tekke põhjustajatena. IgLONid osalevad neuriitide väljakasvus, sünapsite moodustumises ja nende elimineerimises ja neurogeneesis. On näidatud LSAMP taseme 20% tõusu skisofreenia patsientide postmortaalses dorsolateraalses prefrontaalkoores. Kindlaks on tehtud ka teatud SNPid LSAMP geenis, mis on seotud skisofreenia tekkega. Töö eesmärgiks on iseloomustada IgLON perekonna adhesioonimolekulide ekspressiooni skisofreenia patsientide dorsolateraalses prefrontaalkoores, kasutades selleks qPCR. LSAMP, NTM ja OPCML alternatiivsete promootorite 1a ja 1b aktiivsuseid mõõdeti eraldi. Statistiliselt oluline erinevus skisofreenia patsientide ja kontrollisikute vahel esines NEGR1 (P˂0,001) ja NTM 1b (P˂0,01) puhul. Seega võivad muutused IgLON perekonna adhesioonimolekulide ekspressioonis olla üheks skisofreenia tekkepõhjuseks.etIgLONSkisofreeniaDorsolateraalne prefrontaalkoorbakalaureusetöödIgLON valke kodeerivate geenide ekspressiooni muutused skisofreeniapatsientide dorsolateraalses frontaalkooresThesis