Jõgiaas, Taivo, juhendajaVanker, OliverTartu Ülikool. Füüsika instituutTartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkond2024-10-032024-10-032024https://hdl.handle.net/10062/105093Käesolevas töös uuriti aatomkihtsadestatud ränioksiidiga dopeeritud hafniumoksiidist kilesid. Kilede tegemisel varieeriti ränioksiidi dopeeringut 1,5-25,5 moolprotsendi ulatuses. Kilede kristallstruktuuri hinnati röntgendifratsiooni kaudu. Kilede kõvadus ja elastsusmoodul määrati nanotäkkimisega. Kilesid karakteriseeriti lisaks lainedispersiivne röntgenfluorestsents spektroskoopiaga, röntgenpeegeldusega ja spektroskoopilise ellipsomeetriaga. Töös demonstreeritakse kristallstruktuuri tekkimist peale termotöötlust. Hinnati kristallstruktuuri mõju kile mehaanilistele omadustele.etAttribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 EstoniaaatomkihtsadestaminenanotäkkiminetermotöötlusmagistritöödThesis