Tartu Ülikool. Füüsika-keemiateaduskondTartu Ülikool. Materjaliteaduse instituutSammelselg, Väino, juhendajaAarik, Jaan, juhendajaRammula, Raul2007-01-092007-01-092005Tartu Ester bibnumber: b17346885http://hdl.handle.net/10062/1211estchemistrythin filmshafniumühendidõhukesed kiledaatomkihtepitaksiamagistritöödHfO2 kilede aatomkihtkasvu uurimineAtomic layer deposition study of HfO2 thin filmsThesis