HfO2 kilede aatomkihtkasvu uurimine

dc.contributor	Tartu Ülikool. Füüsika-keemiateaduskond	et
dc.contributor	Tartu Ülikool. Materjaliteaduse instituut	et
dc.contributor.advisor	Sammelselg, Väino, juhendaja	et
dc.contributor.advisor	Aarik, Jaan, juhendaja	et
dc.contributor.author	Rammula, Raul	et
dc.date.accessioned	2007-01-09T06:50:22Z
dc.date.available	2007-01-09T06:50:22Z
dc.date.issued	2005	et
dc.identifier.other	Tartu Ester bibnumber: b17346885	et
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/10062/1211
dc.language.iso	est	et
dc.subject	chemistry
dc.subject	thin films
dc.subject.other	hafniumühendid	et
dc.subject.other	õhukesed kiled	et
dc.subject.other	aatomkihtepitaksia	et
dc.subject.other	magistritööd	et
dc.title	HfO2 kilede aatomkihtkasvu uurimine	et
dc.title.alternative	Atomic layer deposition study of HfO2 thin films	et
dc.type	Thesis	et

Files

Now showing 1 - 1 of 1

Now showing 1 - 1 of 1