Aatomkihtsadestatud ning termotöödeldud ränioksiidiga dopeeritud hafniumoksiidist kilede kristallstruktuur ja mehaanilised omadused

dc.contributor.advisorJõgiaas, Taivo, juhendaja
dc.contributor.authorVanker, Oliver
dc.contributor.otherTartu Ülikool. Füüsika instituutet
dc.contributor.otherTartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkondet
dc.date.accessioned2024-10-03T13:49:39Z
dc.date.available2024-10-03T13:49:39Z
dc.date.issued2024
dc.description.abstractKäesolevas töös uuriti aatomkihtsadestatud ränioksiidiga dopeeritud hafniumoksiidist kilesid. Kilede tegemisel varieeriti ränioksiidi dopeeringut 1,5-25,5 moolprotsendi ulatuses. Kilede kristallstruktuuri hinnati röntgendifratsiooni kaudu. Kilede kõvadus ja elastsusmoodul määrati nanotäkkimisega. Kilesid karakteriseeriti lisaks lainedispersiivne röntgenfluorestsents spektroskoopiaga, röntgenpeegeldusega ja spektroskoopilise ellipsomeetriaga. Töös demonstreeritakse kristallstruktuuri tekkimist peale termotöötlust. Hinnati kristallstruktuuri mõju kile mehaanilistele omadustele.
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10062/105093
dc.language.isoet
dc.publisherTartu Ülikoolet
dc.rightsAttribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Estoniaen
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/ee/
dc.subjectaatomkihtsadestamineet
dc.subjectnanotäkkimineet
dc.subjecttermotöötluset
dc.subject.othermagistritöödet
dc.titleAatomkihtsadestatud ning termotöödeldud ränioksiidiga dopeeritud hafniumoksiidist kilede kristallstruktuur ja mehaanilised omadusedet
dc.typeThesisen

Failid

Originaal pakett

Nüüd näidatakse 1 - 1 1
Laen...
Pisipilt
Nimi:
Oliver_Vanker.pdf
Suurus:
2.94 MB
Formaat:
Adobe Portable Document Format