Sirvi Autor "Aarik, Jaan" järgi
Nüüd näidatakse 1 - 2 2
- Tulemused lehekülje kohta
- Sorteerimisvalikud
listelement.badge.dso-type Kirje , Atomic layer deposition of titanium, zirconium and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films(2007-03-16T09:12:58Z) Aarik, Jaanlistelement.badge.dso-type Kirje , Sondijaama juhtimise tarkvara elektriliste mälude uurimiseks(Tartu Ülikool, 2016) Merisalu, Joonas; Aarik, Jaan; Tartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkond; Tartu Ülikool. TehnoloogiainstituutKäesolev töö kirjeldab mäluelementide elektriliste mõõtmiste tegemiseks loodud tarkvara, mis on välja töötatud Tartu Ülikooli Füüsika Instituudi kiletehnoloogia labori sondijaama CascadeMicrotech EPS150TRIAX kasutamiseks koos mõõteseadmetega Agilent E4980A ja Keithley 2636A. Töö heidab pilgu probleemidele, millega seisab silmitsi elektroonsete arvutimälude tööstus tänapäeval ja selgitab miks ja mida on tarvis probleemide lahendamiseks välja töötada, uurida ja mõõta. Töös on analüüsitud nõudeid sellisteks mõõtmisteks vajalikule tarkvarale ning kirjeldatud valminud tarkvara. Antud tarkvara arenduseks ja kontrollimiseks viidi läbi näidismõõtmised kiletehnoloogia laboris valmistatud mäluelementidel. Tarkvara rakendati ka GaAs jõudioodide karakteriseerimisel