Atomic layer deposition of titanium, zirconium and hafnium dioxides: growth mechanisms and properties of thin films
Laen...
Kuupäev
Autorid
Ajakirja pealkiri
Ajakirja ISSN
Köite pealkiri
Kirjastaja
Abstrakt
Kirjeldus
Märksõnad
chemistry, thin films
Eesti
English
Deutsch