Füüsika instituut
Permanent URI for this communityhttps://hdl.handle.net/10062/14976
Browse
Browsing Füüsika instituut by Title
Now showing 1 - 20 of 1489
- Results Per Page
- Sort Options
Item 1997. a. oli sajandi kuumim?(Postimees, 1998-02-01) Kallis, A.Item 2010. aasta augustitormi analüüs: sirgäikesetormi dünaamika modelleerimine HARMONIE mudeliga(Tartu Ülikool, 2013) Toll, Velle; Post, Piia, juhendaja; Männik, Aarne, juhendaja; Tartu Ülikool. Loodus- ja tehnoloogiateaduskond; Tartu Ülikool.Füüsika instituutItem 3D-mikroaku termiliste omaduste modelleerimine(Tartu Ülikool, 2017) Liivak, Martin; Zadin, Vahur, juhendaja; Priimägi, Priit, juhendaja; Tartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkond; Tartu Ülikool. Füüsika instituutItem Item Aasta algas kolme päikesega(Eesti Päevaleht, 2000-02-04) Kallis, A.Item Aasta algus kulgeb libedalt(Eesti Päevaleht, 2001-02-09) Kallis, A.Item Aasta kaunis finaal(Postimees, 2000-01-05) Kallis, A.Item Aasta kui kogu maailm hullus(Maaleht, 2012-01-12) Kallis, A.Item Aasta lõppes tormihoogudega(Eesti Päevaleht, 2000-01-07) Kallis, A.Item Aasta suurima pettumuse valmistasid juuni, juuli, august(Eesti Loodus, 1998) Kallis, A.Item Aastalõpp hea - kõik hea(Maaleht, 2006-01-05) Kallis, A.Item Aastaraamat: Kes? Mis? Kus?, 2007(Tänapäev, 2006) Tammer, Enno, koostajaItem Aatomkihtsadestamise protsesside mõju alumiiniumoksiid kile mehaanilistele omadustele(Tartu Ülikool, 2024) Koppel, Natali; Piirsoo, Helle-Mai, juhendaja; Jõgiaas, Taivo, juhendaja; Tartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkond; Tartu Ülikool. Füüsika instituutAatomkihtsadestatud (ALD) Al2O3 kile kasutatakse palju nano- ja mikrostruktuursetes seadmetes tema dielektriliste omaduste tõttu, kaasa arvatud painduval elektroonikal, kus polümeersele alusele transistorite valmistamisel peab temperatuur olema alla 350 °C. Antud töös vaadeldi 3 erineva ALD protsessi (Al(CH3)3/H2O, Al(CH3)3/O2 plasma, Al(CH3)3/O3) ja 3 eri sadestustemperatuuri (80, 150, 300 °C) mõju Al2O3 kile mehaanilistele omadustele. Mehaaniliselt karakteriseeriti kiled nanotäkkimisel, mil määrati nende kõvadus ja Youngi moodul. Kile kõvadus tõusis sadestustemperatuuriga sõltumata hapnikuallikast ja Youngi moodul H2O ja O3 kasutades. 80 ºC juures valmistati kõige kõvemad (9 GPa) ja kõrgema Youngi mooduliga (157 GPa) Al2O3 kiled O2 plasma protsessis. Antud protsessi kiled olid kõige homogeensemad. Kõige suuremad paksuse gradiendid esinesid O3 protsessides. 300 ºC juures valmistati kõige kõvemad (12 GPa) ja kõrgema Youngi mooduliga (174 GPa) Al2O3 kiled H2O protsessis.Item Aatomkihtsadestatud alumiiniumoksiidi mõju mikrotoomitera lõikevõimele(Tartu Ülikool, 2015) Seemen, Helina; Jõgiaas, Taivo, juhendaja; Kibur, Ragnar-Toomas, juhendaja; Tartu Ülikool. Loodus- ja tehnoloogiateaduskond; Tartu Ülikool. Füüsika instituutItem Aatomkihtsadestatud alumiiniumoksiidist ja tsirkooniumdioksiidist kilede mehaanilised omadused(Tartu Ülikool, 2021) Vanker, Oliver; Jõgiaas, Taivo, juhendaja; Tartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkond; Tartu Ülikool. Füüsika instituutItem Aatomkihtsadestatud alumiiniumtitaanoksiid-kilede elektrilised omadused(Tartu Ülikool, 2015-06-12) Vask, Agnes; Arroval, Tõnis, juhendaja; Aarik, Jaan, juhendaja; Tartu Ülikool. Loodus- ja tehnoloogiateaduskond; Tartu Ülikool. Füüsika instituutItem Aatomkihtsadestatud hafniumtitaanoksiid-kilede elektrilised omadused(Tartu Ülikool, 2017) Vask, Agnes; Aarik, Jaan, juhendaja; Tartu Ülikool. Loodus- ja tehnoloogiateaduskond; Tartu Ülikool. Füüsika instituutItem Aatomkihtsadestatud ning termotöödeldud ränioksiidiga dopeeritud hafniumoksiidist kilede kristallstruktuur ja mehaanilised omadused(Tartu Ülikool, 2024) Vanker, Oliver; Jõgiaas, Taivo, juhendaja; Tartu Ülikool. Füüsika instituut; Tartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkondKäesolevas töös uuriti aatomkihtsadestatud ränioksiidiga dopeeritud hafniumoksiidist kilesid. Kilede tegemisel varieeriti ränioksiidi dopeeringut 1,5-25,5 moolprotsendi ulatuses. Kilede kristallstruktuuri hinnati röntgendifratsiooni kaudu. Kilede kõvadus ja elastsusmoodul määrati nanotäkkimisega. Kilesid karakteriseeriti lisaks lainedispersiivne röntgenfluorestsents spektroskoopiaga, röntgenpeegeldusega ja spektroskoopilise ellipsomeetriaga. Töös demonstreeritakse kristallstruktuuri tekkimist peale termotöötlust. Hinnati kristallstruktuuri mõju kile mehaanilistele omadustele.Item Aatomkihtsadestatud tahkiskeskkondade varieeruva stabiilsusega takistuslülituslik käitumine(Tartu Ülikool, 2022) Viskus, Toomas Daniel; Kukli, Kaupo, juhendaja; Merisalu, Joonas, juhendaja; Tartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkond; Tartu Ülikool. Füüsika instituutItem Aatomkihtsadestatud ternaarsete oksiidide ellipsomeetria(Tartu Ülikool, 2016) Kalam, Kristjan; Kasikov, Aarne, juhendaja; Tartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkond; Tartu Ülikool. Füüsika instituut