Conduction mechanisms in thin atomic layer deposited films containing TiO2

dc.contributor.authorJõgi, Indrek
dc.date.accessioned2007-09-14T06:06:39Z
dc.date.available2007-09-14T06:06:39Z
dc.date.issued2007-09-14T06:06:39Z
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10062/3590
dc.language.isoenet
dc.titleConduction mechanisms in thin atomic layer deposited films containing TiO2et
dc.title.alternativeJuhtivusmehhanismid õhukest aatomkihtsadestatud TiO2 sisaldavates kilestruktuurideset
dc.typeThesiset

Failid

Originaal pakett

Nüüd näidatakse 1 - 1 1
Laen...
Pisipilt
Nimi:
jogi_indrek.pdf
Suurus:
3.83 MB
Formaat:
Adobe Portable Document Format

Litsentsi pakett

Nüüd näidatakse 1 - 1 1
Laen...
Pisipilt
Nimi:
license.txt
Suurus:
373 B
Formaat:
Item-specific license agreed upon to submission
Kirjeldus: