Atomic layer deposition and properties of gallium and tin oxide-based thin films

Lühendatud kirje lehekülg
dc.contributor.advisorAarik, Lauri, juhendaja
dc.contributor.advisorKukli, Kaupo, juhendaja
dc.contributor.authorTuberg, Anna Maria
dc.contributor.otherTartu Ülikool. Füüsika instituutet
dc.contributor.otherTartu Ülikool. Loodus- ja täppisteaduste valdkondet
dc.date.accessioned2025-08-27T09:37:38Z
dc.date.available2025-08-27T09:37:38Z
dc.date.issued2025
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10062/115512
dc.language.isoen
dc.publisherTartu Ülikoolet
dc.rightsAttribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Estoniaen
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/ee/
dc.subjectõhukesed kiledet
dc.subjectaatomkihtsadestuset
dc.subjectgalliumoksiidet
dc.subjecttinaoksiidet
dc.subject.othermagistritöödet
dc.titleAtomic layer deposition and properties of gallium and tin oxide-based thin filmsen
dc.typeThesiset

Failid

Originaal pakett

Nüüd näidatakse 1 - 1 1
Pisipilt
Nimi:
Anna_Maria_Tuberg.pdf
Suurus:
1.79 MB
Formaat:
Adobe Portable Document Format
Lae alla

Kollektsioonid

Materjaliteaduse magistritööd – Master's theses