Atomic layer deposition and properties of gallium and tin oxide-based thin films
Laen...
Kuupäev
Autorid
Ajakirja pealkiri
Ajakirja ISSN
Köite pealkiri
Kirjastaja
Tartu Ülikool
Abstrakt
Kirjeldus
Märksõnad
õhukesed kiled, aatomkihtsadestus, galliumoksiid, tinaoksiid