Atomic layer deposition of artificially structured dielectric materials
Kuupäev
1999
Autorid
Ajakirja pealkiri
Ajakirja ISSN
Köite pealkiri
Kirjastaja
Tartu : Tartu University Press
Abstrakt
Kirjeldus
Märksõnad
oksiidkiled, aatomkihtsadestamine, füüsikalised omadused, dissertatsioonid