Atomic layer deposition of artificially structured dielectric materials

Lühendatud kirje lehekülg
dc.contributor.authorKukli, Kaupo
dc.date.accessioned2014-09-18T10:44:16Z
dc.date.available2014-09-18T10:44:16Z
dc.date.issued1999
dc.description.urihttps://www.ester.ee/record=b1164468*estet
dc.identifier.isbn9789949376438
dc.identifier.otherDiss.A-2325
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/10062/43525
dc.language.isoenet
dc.publisherTartu : Tartu University Presset
dc.relation.ispartofseriesDissertationes physicae Universitatis Tartuensis, 1406-0647;27
dc.subjectoksiidkiledet
dc.subjectaatomkihtsadestamineet
dc.subjectfüüsikalised omadusedet
dc.subjectdissertatsioonidet
dc.titleAtomic layer deposition of artificially structured dielectric materialset
dc.typeThesiset

Failid

Originaal pakett

Nüüd näidatakse 1 - 1 1
Pisipilt
Nimi:
kukli_atomic_1999.pdf
Suurus:
122.4 MB
Formaat:
Adobe Portable Document Format
Kirjeldus:
Tekstituvastusega
Lae alla

Litsentsi pakett

Nüüd näidatakse 1 - 1 1
Pisipilt ei ole saadaval
Nimi:
license.txt
Suurus:
1.71 KB
Formaat:
Item-specific license agreed upon to submission
Kirjeldus:
Lae alla

Kollektsioonid

3. Dissertatsioonid 1944 kuni 2004. Theses from 1944 to 2004